完璧な高光沢を実現: セラミックタイルの研磨の要素

セラミック タイルの光沢仕上げに寄与するいくつかの要因を次に示します。

研磨材の選択: 研磨プロセスでは、粒径が徐々に小さくなる一連の炭化ケイ素 (SiC) 研磨材が一般的に使用されます。粒子のサイズは、#320 からラックス グレードなど、粗いものから細かいものまであります。これらの研磨剤を使用すると、光沢が大幅に向上します。

研磨工具の摩耗: 研磨ツールの曲率によって示される研磨ツールの摩耗状態は、研磨結果に大きく影響します。新しい研磨ツールは、摩耗した研磨ツールと比較して、接触圧力の変化により異なる研磨効果をもたらします。たとえば、(摩耗による) 工具の曲率の減少は接触圧力の増加につながり、それによって光沢と材料の除去速度に影響を与えます。

研磨効率: 研磨効率は、タイル摩耗率と摩耗摩耗率の比として定義されます。この効率は、砥粒サイズや摩耗状態の違いによって異なります。たとえば、＃320 グリット研磨材の場合、研磨材の曲率が最も高く（接触圧力が最も低く）、研磨効率が最も高くなります。

要約すると、セラミック タイルで高光沢効果を実現するには、適切な砥粒サイズを選択し、研磨ツールの摩耗状態を制御し、圧力などの研磨プロセスのその他のパラメータを最適化する必要があります。これらの要因は総合的に、光沢、粗さ、材料除去速度などの研磨結果に影響します。

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